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薄膜厚度測量儀

簡要描述:

薄膜厚度測量儀以F20平臺為基礎所發展的F10-HC薄膜測量系統,能夠快速的分析薄膜的反射光譜資料并提供測量厚度,加上F10-HC軟件的模擬演算法設計,能夠在厚膜中測量單層與多層(例如:底漆或硬涂層等)。

更新時間:2021-12-09

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薄膜厚度測量儀以F20平臺為基礎所發展的F10-HC薄膜測量系統,能夠快速的分析薄膜的反射光譜資料并提供測量厚度,加上F10-HC軟件的模擬演算法設計,能夠在厚膜中測量單層與多層(例如:底漆或硬涂層等)。

簡易操作界面

現在,具有新樣板模式功能的F10-HC將更容易使用,這個功能允許用戶匯入樣品的影像,并直接在影像上定義測量位置。系統會自動通知使用者本次測量結果是否有效,并將測量的結果顯示在匯入的影像上讓用戶分析。

不需要手動基準校正

薄膜厚度測量儀F10-HC現在能夠執行自動化基準矯正以及設置自己的積分時間這個創新的方法不需要頻繁的執行基準矯正就可以讓使用者立即的執行樣本的測量 。

背面反射干擾

背面反射干擾對厚度測量而言是一個光學技術的挑戰,具有F10-HC系統的獨特接觸式探頭能將背面反射干擾的影響最小化,使用者能以較高的精準度來測量涂層厚度。

選擇Filmetrics的優勢

• 24小時電話,郵件和在線支持

• 所有系統皆使用直觀的標準分析軟件

附 加 特 性

• 嵌入式在線診斷方式

• 免費離線分析軟件

• 精細的歷史數據功能,幫助用戶有效地存儲,重現與繪制測試結果

 

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